光罩是什麼、光罩種類、光罩廠商在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說

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光罩是在積體電路，如LSI，的製造過程中使用的必要基本設備。它是一片透明的石英玻璃，其主要用途在於將積體電路之各種電路設計圖形轉化為晶圓製造廠大量生產所需的 ...

一個光罩是一片熔融二氧化矽（石英）板，通常為6英寸（約152 毫米）矩形，其上覆蓋著由不透明、透明和相偏移區域所組成的圖案，在微影製程中圖案被投影到晶圓上， ...

光罩（英語：Reticle, Mask）：在製作積體電路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理。

一般光罩是在石英(Quartz)上製作極細緻的形象，如同利用底片照相般，利用光罩在wafer上形成複雜的圖案(pattern)製作出無數的半導體要素。光罩的準確度以及細緻的pattern ...

光罩係生產積體電路所需之模具，其製造過程是將積體電路所需的電路圖案，利用圖形產生激將電路圖案曝光至塗有感光材料的玻璃平板上，再藉由顯影、化學蝕刻 ...

首先，先來解釋什麼是光罩(Mask)？光罩在半導體前段製程中的用途，是利用光蝕刻技術，將半導體上形成的圖型，運用光罩做用的原理，複製於晶圓上。

晶片的製造方式，是在矽晶圓（Wafer）上沈積或生產出一些不同材料的薄膜，一層一層疊上去，這些薄膜的特性處理，就是利用光罩來規劃。不同功能的晶片，其複雜度各異，晶片 ...

台灣光罩繼切入90奈米、65奈米等較高階製程光罩後，公司也規劃跨入40奈米和28奈米，其中40奈米目標是今年底至明年初量產，而28奈米則預計本季啟動，其中， ...

光刻（英語：photolithography）是半導體器件製造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然後通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在 ...

微影製程是將電路圖案，透過已刻好圖案的光罩及光阻，「轉印」到晶圓上的過程。舉例來說，在已有一層二氧化矽薄膜的晶圓上（見下圖），我們希望在特定位置蝕刻出一個 ...