reticle mask差異、光罩設計、倍縮光罩在PTT/mobile01評價與討論，在ptt社群跟網路上大家這樣說
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reticle mask差異在知識力的討論與評價
... 以電子束刻寫在石英片上就形成「光罩(Photomask)」或「倍縮光罩(Reticle)」，是製作積體電路(IC)非常重要的工具，兩個名詞在嚴格定義時有些差異：
reticle mask差異在微影照像的討論與評價
的方法是用電子束曝光系統製作母光罩（master photomask），再用光學照像設備複 ... 成像的稱為mask，縮小後成像的稱為reticle。 微影照像製作圖案的主要步驟為：.
reticle mask差異在光罩與倍縮光罩的差別? | 蘋果健康咬一口的討論與評價
倍縮光罩(Reticle):當鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為倍縮光罩，通常圖型要放大4倍、5倍或10倍。 光罩(Mask):當鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。
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reticle mask差異在光罩 - 解釋頁的討論與評價
光罩Mask。Reticle。 生產晶片的模具稱為光罩。當IC設計公司設計出一款晶片電路圖之後 ...
reticle mask差異在微影制程之《Mask/Reticle》篇（转） - 智于博客的討論與評價
光罩(土话叫光刻版)，英文名叫Mask，也叫Reticle(因为早期的对位是十字线)。通常有5寸和6寸两种大小，5寸光罩主要用于5寸和6寸的FAB生产线，而6寸光罩 ...
reticle mask差異在光罩- Reticle, Mask):在製作IC的過程中 - 華人百科的討論與評價
實體結構:布滿積體電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。 倍縮光罩(Reticle):當鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為倍縮光罩，通常圖型要放大4 ...
reticle mask差異在第一章緒論 - 國立交通大學機構典藏的討論與評價
合差異稱為覆蓋誤差，覆蓋誤差過大而超過design rule 設計規範將導致元件短路或斷路 ... 與作用的區域，藉由光罩（Mask），或倍縮光罩（Reticle）將元件設計圖樣之電路 ...
reticle mask差異在關於黃光及其100個疑問，這篇文章已全面解答 - 每日頭條的討論與評價
是一種感光的物質，其作用是將Pattern從光罩（Reticle）上傳遞到Wafer上的 ... 答：Reticle也稱為Mask，翻譯做光掩模板或者光罩，曝光過程中的原始 ...
reticle mask差異在掩模 - 中文百科知識的討論與評價
為了區別接觸式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被稱為倍縮式掩模（reticle）。 掩模版（mask）簡稱掩模，是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設計 ...
reticle mask差異在LCD厂掩膜版叫Mask,Fab里掩膜版叫reticle,两者有什么区别？的討論與評價
现在在Fab 里面mask 和reticle 都有人说，都是指光罩，没有什么区别。 ... 到今天，两者其实差异并不大，说起mask大家会知道是光罩，说reticle，大家也清楚是光罩。